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Ö÷Óª£º½¦Éä°Ð²Ä,ïçïÈÃÌÑõ°Ð²Ä,ÌմɰвÄ,ºÏ½ð°Ð²Ä,îƱµÍÑõ°Ð²Ä,Ñõ»¯îê°Ð²Ä,Ñõ»¯îѰвÄ,Ñõ»¯Ð¿°Ð²Ä
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ÄϾ©ãå´¨ÉÌó¹©Ó¦¸÷ÖÖµª»¯ÎïÌմɽ¦Éä°Ð²Ä µª»¯ÂÁ°Ð²Ä (AlN),µª»¯Åð°Ð²Ä (BN),µª»¯ïذвÄ(GaN),µª»¯îþ°Ð²Ä(HfN),µª»¯îê°Ð²Ä,NbN,µª»¯¹è°Ð²Ä,(Si3N4),µª»¯îã°Ð²Ä,TaN,µª»¯îÑ°Ð²Ä (TiN),µª»¯·°°Ð²Ä,VN,µª»¯ï¯°Ð²Ä,ZrN sputtering target
Åð»¯ÎｦÉä°Ð²Ä, CaB6,ÁùÅ𻯸ưвÄ,Å𻯶þ¸õ°Ð²Ä (Cr2B),Å𻯸õ°Ð²Ä (CrB),¶þÅ𻯸õ°Ð²Ä (CrB2),ÈýÅð»¯Îå¸õ°Ð²Ä (Cr5B3), Åð»¯Ìú°Ð²Ä (FeB),¶þÅð»¯îþ°Ð²Ä (HfB2),ÁùÅð»¯ïç°Ð²Ä (LaB6),Å𻯶þîâ (Mo2B),ÎåÅ𻯶þîâ(Mo2B5),Åð»¯îê(NbB),¶þÅð»¯îê(NbB2),Åð»¯îã (TaB),Tantalum Boride (TaB2),¶þÅð»¯îÑ(TiB2),Å𻯶þÎÙ (W2B),Åð»¯ÎÙ(WB),Å𻯷°°Ð²Ä(VB),¶þÅ𻯷°°Ð²Ä(VB2),¶þÅð»¯ï¯°Ð²Ä(ZrB2) sputtering target
ÄϾ©ãå´¨ÉÌó¹©Ó¦¸÷ÖÖ̼»¯ÎïÌմɽ¦Éä°Ð²Ä ̼»¯ËÄÅð°Ð²Ä(B4C),¶þ̼»¯Èý¸õ°Ð²Ä(Cr3C2),̼»¯îþ°Ð²Ä(HfC),̼»¯¶þîâ°Ð²Ä,(Mo2C),̼»¯îê°Ð²Ä(NbC),̼»¯¹è°Ð²Ä,(SiC),̼»¯îã°Ð²Ä,(TaC),̼»¯îѰвÄ(TiC),̼»¯ÎٰвÄ(WC),̼»¯¶þÎÙ°Ð²Ä (W2C),̼»¯·°°Ð²Ä (VC),̼»¯ï¯°Ð²Ä (ZrC) sputtering target
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